Entwicklung einer Technologie zur Herstellung eines neuartigen Substrates mit struktuierten vergrabenen Kobaltdisilizidschichten für die gemeinsame Integration bipolarer und unipolarer Bauteile auf einem SOI-Wafer
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%0 Thesis
%1 zimmermann2007entwicklung
%A Zimmermann, Sven
%D 2007
%K
%T Entwicklung einer Technologie zur Herstellung eines neuartigen Substrates mit struktuierten vergrabenen Kobaltdisilizidschichten für die gemeinsame Integration bipolarer und unipolarer Bauteile auf einem SOI-Wafer
@phdthesis{zimmermann2007entwicklung,
added-at = {2023-12-12T23:21:33.000+0100},
author = {Zimmermann, Sven},
biburl = {https://www.bibsonomy.org/bibtex/281846fabc21fdd43dab21cf36b21836b/admin},
dnbtitleid = {991174607},
interhash = {54f0a855d1a820b8a3d8e5c03e101b68},
intrahash = {81846fabc21fdd43dab21cf36b21836b},
keywords = {},
school = {TU Chemnitz},
timestamp = {2023-12-12T23:21:33.000+0100},
title = {Entwicklung einer Technologie zur Herstellung eines neuartigen Substrates mit struktuierten vergrabenen Kobaltdisilizidschichten für die gemeinsame Integration bipolarer und unipolarer Bauteile auf einem SOI-Wafer},
year = 2007
}