,

Towards low damage and fab-compatible top-contacts in MX2 transistors using a combined synchronous pulse atomic layer etch and wet-chemical etch approach.

, , , , , , , , , , , , , , , , и .
VLSI Technology and Circuits, стр. 1-2. IEEE, (2023)

Метаданные

тэги

Пользователи данного ресурса

  • @dblp

Комментарии и рецензии